用于叠层晶圆的光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言
随着半导体技术向高密度、高性能方向发展，叠层晶圆技术成为关键。在叠层晶圆制造过程中，光刻胶剥离液的性能对工艺质量和器件可靠性影响重大。同时，精确测量光刻图形是保障叠层晶圆制造精度的重要环节，白光干涉仪为此提供了有效的技术手段。
用于叠层晶圆的光刻胶剥离液
性能要求
叠层晶圆结构复杂，对光刻胶剥离液提出了严苛要求。首先，剥离液需具备高效的光刻胶溶解能力，能快速去除多层光刻胶，以提高生产效率。其次，剥离液必须对晶圆材料及已集成的器件结构...